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OVE EN 62047-26

Ausgabedatum: 2017 01 01

Halbleiterbauelemente - Bauelemente der Mikrosystemtechnik -- Teil 26: Beschreibung und Messverfahren für Mikro-Rillen und Nadelstrukturen (IEC 62047-26:2016) (deutsche Fassung)

In diesem Teil der IEC 62047 ist die Beschreibung von Rillen- und Nadelstrukturen im Mikrometerbereich festgelegt. Zudem werden Beispiele zur Messung der geometrischen Me...
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Gültig
In diesem Teil der IEC 62047 ist die Beschreibung von Rillen- und Nadelstrukturen im Mikrometerbereich festgelegt. Zudem werden Beispiele zur Messung der geometrischen Merkmale für beide Strukturen zur Verfügung gestellt. Bei Rillenstrukturen ist diese Norm für Strukturen mit einer Tiefe von 1 µm bis 100 µm, für Rillen und Stege mit Breiten von jeweils 5 µm bis 150 µm und einem Aspektverhältnis von 0,006 7 bis 20 anwendbar. Bei Nadelstrukturen ist die Norm für Strukturen mit drei oder vier Seitenflächen mit einer Höhe, horizontalen und vertikalen Breite von größer oder gleich 2 µm und Abmessungen, die in einen Würfel mit 100 µm Kantenlänge passen, anwendbar.
OVE EN 62047-26
2017 01 01
Halbleiterbauelemente - Bauelemente der Mikrosystemtechnik -- Teil 26: Beschreibung und Messverfahr...
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