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Halbleiterbauelemente - Bauelemente der Mikrosystemtechnik -- Teil 16: Messverfahren zur Ermittlung der Eigenspannungen in Dünnschichten von MEMS-Bauteilen - Substratkrümmungs- und Biegebalken-Verfahren (IEC 62047-16:2015) (englische Fassung)

ÖVE/ÖNORM EN 62047-16: 2016 02 01

Zusammenfassung:

This part of IEC 62047 specifies the test methods to measure the residual stresses of films with thickness in the range of 0,01 µm to 10 µm in MEMS structures fabricated by wafer curvature or cantilever beam deflection methods. The films should be deposited onto a substrate of known mechanical properties of Young’s modulus and Poisson’s ratio. These methods are used to determine the residual stresses within thin films deposited on substrate [1]1.

Zusammenfassung

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