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ÖNORM EN 1071-10
Ausgabedatum: 2009 08 15
Hochleistungskeramik - Verfahren zur Prüfung keramischer Schichten - Teil 10: Bestimmung der Schichtdicke mittels Querschliff
Dieses Dokument legt ein Messverfahren für die Schichtdicke keramischer Beschichtungen fest, bei dem ein
metallographisch angefertigter Querschliff der Beschichtigung mi...
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Gültig
Herausgeber:
Austrian Standards International
Format:
Digital | 15 Seiten
Sprache:
Deutsch
| Englisch
| Download DE/EN
Standards mitgestalten:
ICS
Dieses Dokument legt ein Messverfahren für die Schichtdicke keramischer Beschichtungen fest, bei dem ein
metallographisch angefertigter Querschliff der Beschichtigung mit einem kalibrierten Licht- oder
Rasterelektronenmikroskop untersucht wird. Es lehnt sich eng an EN ISO 9220 [8] an, jedoch wurden alle
erforderlichen Anpassungen und Aktualisierungen vorgenommen, um keramischen Beschichtungen und der
derzeitig besten Praxis zu entsprechen.
ÖNORM EN 1071-10
2009 08 15
Hochleistungskeramik - Verfahren zur Prüfung keramischer Schichten - Teil 10: Bestimmung der Schicht...
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ÖNORM CEN/TS 1071-10
2004 10 01
Hochleistungskeramik - Verfahren zur Prüfung keramischer Schichten - Teil 10: Bestimmung der Schicht...
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ÖNORM CEN/TS 1071-10
2004 01 01
Hochleistungskeramik - Verfahren zur Prüfung keramischer Schichten - Teil 10: Bestimmung der Schicht...
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